Nuestro Grafeno

Nuestra compañía distribuye grafeno epitaxial preparado en sustratos de 8 x 8 mm2, que han sido previamente cortados de una oblea semi-aislante y on-axis 4H-SiC, y crecido sobre la cara silicio por un proceso de sublimación controlada.

GPNT, además, distribuye grafeno epitaxial en sustratos de otros tamaños, off-axis, con una capa conductiva incorporada por implantación iónica, o bien preparado en la cara carbono del SiC. No dude en contactarnos para consultar presupuesto u otras cuestiones.

MÉTODO DE FABRICACIÓN

Nuestras muestras se fabrican a partir de sustratos de carburo de silicio (SiC), y en un ambiente controlado de presión, alta temperatura y flujo de gases inertes. Bajo estas condiciones tiene lugar la sublimación selectiva de los átomos superficiales de silicio. Esta desorción y la subsecuente reorganización de los átomos de carbono, da lugar a la formación de grafeno epitaxial en la superficie de los sustratos de carburo de silicio. A este proceso se le conoce como grafitización.

Espectro Raman y mapping de la anchura del pico 2D medidos sobre la región puntual marcada con una cruz roja y sobre el área de la imagen óptica, respectivamente.

Imagen óptica del grafeno, evidenciando la formación de terrazas en la cara Si del SiC.

Topografía de una muestra a través de microscopía de fuerza atómica.

Litografía sobre grafeno.
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